这天，马宇腾的轿车驶入龙岗区雷霆晶片工厂，直抵办公楼前。

此前，晶片公司总经理肖光楠在电话中告知，90纳米製程已取得突破，他特意赶来亲眼看看成果。

轿车停稳，马宇腾推门下车。

肖光楠早已等在门口，见他出现，立刻迎上前去，脸上带著难以掩饰的兴奋。

“马总，欢迎您来雷霆晶片指导工作。”肖光楠说。

“走吧，带我去看看你们的成果。”

马宇腾言语简洁，目光直接投向生產区方向。

前往生產区域的路上，肖光楠边走边匯报：

“马总，上次向您报告90纳米製程试產有突破。这几周，我们持续调试和优化，现在已成功跑通整个工艺流程。儘管良品率还有提升空间，但技术路径已得到充分验证。”

他语气中透著一股自豪，这是团队夜以继日攻关的结晶。

两人抵达洁净室入口，按规定换上无尘服，戴好口罩与手套。

经过风淋室的严格净化，才得以进入生產腹地。

洁净室內，巨大的设备阵列排布，机械臂在各自轨道上精確运行，发出轻微的机械声。

空气中，一种微弱而奇特的气味，那是高科技与精密製造混合出的专属气息。

肖光楠引领在前，指著一台核心设备介绍：

“马总，这就是我们90纳米製程的实验线。目前，所有关键设备均已就位，並完成了初步集成与校准。”

马宇腾的目光落在那台庞大的机器上，它被严密的防护罩包裹，占据了洁净室的核心位置。

“这是浸没式光刻机？”马宇腾的声音透过口罩，略显低沉。

他想起数月前，与张如晶商谈时的情景。

“是的。”肖光楠回应。

“它採用193纳米波长的深紫外线光源，通过在镜头与晶圆间填充纯水，有效提升了数值孔径，从而实现更小的曝光尺寸。”

他指向机器侧面的显示屏，“您看，这是光刻机的工作状態参数。我们正在进行曝光测试。”

显示屏上，数据流转，光束路径、曝光强度、晶圆定位精度，各项技术指標跃然眼前。

“这台机器的精度，远超我们此前使用的乾式光刻机。”

肖光楠继续说。

“它的解析度能达到90纳米甚至更低。这是我们实现90纳米製程突破的关键。”

马宇腾走到一台运行中的设备旁，一个机械臂正將一片晶圆送入设备內部。

晶圆表面，在强光下泛著微光。

“整个工艺流程，从晶圆清洗、涂胶、曝光、显影、刻蚀，再到离子注入和金属化，我们都进行了大量的优化和验证。”

肖光楠说，“当前，良品率是最大挑战。实验阶段波动较大，但我们相信，隨著工艺的进一步成熟和参数的精细调整，很快就能达到稳定量產的要求。”

马宇腾转头看肖光楠，眼神中带著考量。

“现在技术路径已全部跑通？”

“是的。”肖光楠肯定地回答。

“浸没式光刻是当前半导体先进位程的唯一道路。台积电已用事实证明了这点。我们的技术团队，包括从东芯国际交流过的工程师，都认为这个方向正確无误。”

本章未完，点击下一页继续阅读。（1 / 2）