工程师们围绕著庞大的设备，布线、安装传感器、调试新模块。

李明哲协调各方资源，確保改造所需的关键部件以最快速度到位。林薇则穿梭在各个工位之间，確认每一个细节，她的存在本身就是一种无声的鞭策和定心丸。

改造完成，系统重新启动。所有人的目光都聚焦在中控屏幕。清洗、乾燥、光刻、刻蚀、离子注入……晶圆沿著既定的轨道，沉默地流经一道道工序。每一个环节的通过，都让紧张的气氛增添一分。

最终测试环节，林薇、孙浩、老周以及被惊动的张京京都守在数据终端前。

当最后一片晶圆的电性测试数据录入系统，屏幕上的统计图表最终生成——平均良率：70.5%！

短暂的寂静后，中控室里爆发出巨大的欢呼声！孙浩与老周用力拥抱，年轻的工程师们击掌相庆，许多人眼角闪烁著激动的泪光。

70%！这不仅是一个数字，这是在阿斯莫封锁、设备状態不稳定的逆境中，他们依靠自身智慧和极致努力，强行凿开的一道生命线！

它意味著天权3號晶片的大规模生產，拥有了坚实的工艺基础！

张京京用力拍了拍林薇的肩膀，语气中满是敬佩：

“林总，你们这不仅是提升了良率，更是给我们『追光』团队爭取了宝贵的时间！这证明了，即使设备暂时受限，通过工艺的极致优化，我们依然能爆发出强大的战斗力！”

陈醒从深城打来视频电话，背景是总部同样沸腾的办公室：

“林薇，孙博士，老周，还有所有参与攻坚的同事们！你们创造了奇蹟！这是自主创新精神最完美的体现！集团將授予你们『总裁特別奖』，並立即全面推广mist工艺！”

喜悦之后，林薇却再次走到了监控屏幕前，指著良率分布图上一处细微的凹陷：

“大家看，存储单元区域的良率是68.1%，比逻辑区域低了2.4个百分点。这说明在面对更高深宽比的复杂图形时，我们的工艺还有优化空间。mist的潜力，远不止70%。”

她立刻要求团队针对高密度区域，启动新一轮的参数微调，目標是让良率分布更加均匀，向75%发起衝击。

也就在这个充满胜利喜悦的夜晚，林薇的个人工作邮箱收到了一封匿名邮件。

邮件標题是“关於贵司mist工艺在大尺寸硅片应用的一点不成熟建议”。

正文没有任何寒暄，只有几句简短的技术描述，指向一个核心问题：当硅片尺寸从8英寸迈向12英寸时，mist工艺可能因溶液流动和兆声场分布不均，导致边缘良率显著下降。

附件是一份更详细的技术摘要，提出了一个名为 “边缘电场辅助与流场协同控制” 的解决方案雏形。

这份邮件显示出发件人对mist工艺原理惊人的理解深度，绝非泛泛而谈。

林薇的眉头微微蹙起，她將邮件转发给了陈醒和法务总监周明，並附言：

“技术建议极具洞察力，直指我们下一阶段的潜在瓶颈。但发件人身份可疑，需警惕技术陷阱或商业间谍。建议彻查。”

陈醒的回覆很快到来：

“邮件已阅。技术方向值得高度关注。巧合的是，我们刚收到消息，三桑电子负责先进封装与晶圆级工艺的一位资深首席工程师，於上周突然提交辞呈，原因不明。周明，优先从安全角度介入调查。”