至于原本历史上在豫省的相关从业者、比如雒阳钼业之类的，统统被顾辙挤出去了。

顾辙很清楚，后世二硫化钼芯片技术突破后，钼矿的价格就迎来了一波飙升。

这种技术并不能完全摆脱对光刻机的依赖，只是原本的旧科技要用光刻机直接来刻芯片本身、而现在是用光刻机来刻沉积芯片的膜。

然后顾辙就趁着这个时候，抛出橄榄枝谈判相互的技术授权、生产光刻机所需的其他工业母机的一揽子谈判计划。

具体的操作，其实也跟之前说的“打印电离沉积膜、配合粉末冶金烧结”搞3d打印钛合金差不多。

还特地去中原的豫省撒了大笔投资，比后世苹果在荥阳开生产基地的手笔还大，让雷老板帮着投资了一大堆东西，换取了弘农市的崤山辉钼矿35年承包开采权。

化学沉积法造芯片也是这样，你一开始的沉积膜还是需要5纳米3纳米那种高精度光刻机来刻的，但沉积膜刻好了之后可以反复用，随着工艺进步，一次膜可以反复沉积几十几百甚至更多片芯片。

前者每一个零件都要切一遍，后者切出模具后可以反复用。

这本书开得还是有些心急……还撞上了过年、冬奥会、战争、隔离……各种流量锐减，谣言满天飞。

这一次是需要用光刻/蚀刻设备先打印刻出沉积二硫化钼的特殊电离沉积膜材料。然后有了吸附二硫化钼游离颗粒的膜，才能吸引二硫化钼沉积出一层层分子的厚度，最后增材加工成芯片。

顾辙2014年拿出来的第一代二硫化钼芯片，其实也才5纳米左右的工艺，比后世2020年代的二硫化钼芯片差远了。

顾辙就这样，在二硫化钼芯片彻底发力席卷全球之前，就先控制住了全球40%的高品位芯片级辉钼矿来源，将来还会去刚果也布局一下。

最终，在2013年年底，距离顾辙最初搞出石墨烯科学发现后大约八年半，他总算是拿到了诺贝尔物理学奖——他拿了比安德烈海姆多得多的成果，却还比安德烈海姆多等了两年半时间差，才拿到这一切，只因为他是黄皮肤的。

他知道二硫化钼芯片相比于硅基芯片，有个资源上的短板。

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拿到诺奖后，顾辙在深耕了八年石墨烯之余，终于渐渐把科技树爬到了“用单层原子/分子厚度的二维平面材料，配合化学沉积法制造芯片”这一领域。

而且顾辙去当地投资时，豫省先进制造业还很落后，gdp数据也不好。听说这样的国内头号民营科技巨头肯来投资，还是搞高端电子和芯片，当地领导直接兴奋得要啥给啥，配套电站和要点辉钼矿采矿权都不算什么了。

2013年的华夏和西方的关系还不错，而且当时世界的矛盾点在别的方向，刚好要拉拢东方世界，这一切也还顺理成章，再晚就难了。

所以，这虽然不能完全绕过光刻机，却可以打打降低对光刻机的依赖频次。原本刻一次生产一片芯片，现在刻一次可以生产几百片芯片。

而豫陕交界的弘农市崤山钼矿，是后世地球上仅有的两个可以直接粉碎离心溶胶化后就生产二硫化钼芯片的大型矿场——地球上另一个符合这一条件的大型辉钼矿，在中非的刚国。

顾辙以5纳米初代二维二硫化钼沉积技术为诱饵，榨取了旧时代的全部技术壁垒落差，确保自己跟asml和湾积电在光刻领域也回到一个起跑线上，然后再进一步深耕自己的二硫化钼芯片。

毕竟光刻机是耗电大户，后世湾湾的电力相当一部分都被湾积电吃了。哪怕改用化学沉积法造芯片，要粉碎离心溶胶化二硫化钼，耗电也是非常恐怖的。专门拉一座发电站给相关企业，这非常合理。

顾辙还有更好的工艺，但他不急于拿出来。一来是还需要研发时间，二来是他深知有些底牌彻底拿出来后、竞争对手就没那么恐惧了。

那就是硅基芯片所需的化学元素不值钱，二氧化硅就是沙子，取之不尽用之不竭。

顾辙毫无疑问选用了他前世淫浸多年的二维二硫化钼技术。

有些时候，模糊的“我现在虽然还不如你，但未来肯定要干掉你”的预期，才是最让人惊慌失措的，如果刀子已经砍到头上，对方反而会脑子一热心一横跟你干到底。

关键是社会三观开摆了，我知道我这书肯定没戏，这条赛道以后也没戏了。开书前编缉的一句警告言犹在耳：《学霸黑科技》能火，那也是几年前的事儿了，20年之后全社会转型躺平，再来一本同类也火不了，除非过程很轻松、嘴一张黑科技直接白给。时代不同了，现在都市文要不劳而获。

当然我还是很对不住大家的。这本书的资源真的是很好，三江强推都上了，所有外部资源都配合到位了，就是我自己不行。思想也老化，跟社会上年轻人的脱节太严重。

我写书十年，都没怎么正经休息过。还是观望两个月，等6月下旬再开书吧，不保证几号。最近去网上学点编剧课，提升一下自己的节奏感，我写书节奏确实差。写了十年一直输出，也需要静下来专门学习一阵子，输入输入，否则思想榨干了没新意。

目前还不知道写什么，只知道回归历史，愿意赏光的书友，可以7月1号放了暑假再回来，7-1肯定开了。其他的细节，后续正式完本感言再详聊。

(本章完)